清華科研成果有望解決光刻機卡脖子難題 路還很長

在芯片制造業(yè)中，光刻機至關重要，每顆芯片都需要經過光刻技術的鍛造。荷蘭阿斯麥（ASML）公司是目前世界上唯一的EUV光刻機供應商，影響著全球芯片供應。若想在這方面不被卡脖子，則需要我們國家在光刻機領域取得突破性研究成果。

據科技日報報道，2月25日，清華大學的一項科研成果刊登在《自然》上，這篇題為《穩(wěn)態(tài)微聚束原理的實驗演示》的論文，報告了一種新型粒子加速器光源“穩(wěn)態(tài)微聚束”（SSMB）的首個原理驗證實驗。SSMB光源的潛在應用之一就是作為未來EUV光刻機的光源。

SSMB原理驗證實驗示意圖

該實驗由清華大學工程物理系唐傳祥教授研究組和亥姆霍茲柏林材料與能源研究中心、德國聯(lián)邦物理技術研究院合作完成。唐傳祥表示，基于SSMB的EUV光源有望解決自主研發(fā)光刻機中最核心的“卡脖子”難題。但是，EUV光刻機的自主研發(fā)還有很長的路要走，這需要SSMB EUV光源的持續(xù)科技攻關，也需要上下游產業(yè)鏈的配合，才能獲得真正成功。