耗時超四年迎曙光 國產(chǎn)光刻膠再迎重大進展

繼中芯國際續(xù)單ASML光刻機后，國產(chǎn)半導體光刻膠領域再迎喜訊。

周一（8日）盤后，上海新陽公告稱，經(jīng)各方積極協(xié)商、運作，ASML-1400光刻機設備于今日已進入合作方北方集成電路技術創(chuàng)新中心（北京）有限公司場地，后續(xù)將進行安裝調(diào)試等相關工作。公司采購的ASML干法光刻機設備順利交付，對加快193nm ArF干法光刻膠產(chǎn)品開發(fā)進度有積極影響。

值得一提的是，天眼查顯示，合作方北方集成電路技術創(chuàng)新中心（北京）有限公司大股東為芯鏈融創(chuàng)集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展（北京）有限公司，后者由北京凱世通半導體有限公司在內(nèi)的26個國內(nèi)半導體優(yōu)質(zhì)公司共同出資組建。中芯國際、北京亦莊則占比各為25%并列為第二大股東。

立項4年屢遭挫折 國產(chǎn)替代浪潮下終現(xiàn)曙光

對于上海新陽本身來說，ASML干法光刻機設備順利交付意義非凡。公開資料顯示，早在2016年底，上海新陽即已立項研發(fā)193納米干法光刻膠，但在隨后的研發(fā)過程中進展屢遭挫折。

2018年3月，上海新陽和上海逸納共同出資設立芯刻微，從事193nm干法高端光刻膠產(chǎn)品的研究與產(chǎn)業(yè)化工作，但雙方于次年5月終止合作；同年12月，公司以自有資金投資江蘇博硯電子科技有限公司，持有博硯電子公司10%的股權，后者主要從事平板顯示產(chǎn)業(yè)用相關光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)、生產(chǎn)。

2019年10月，上海新陽啟動合肥第二生產(chǎn)基地項目的建設。合肥基地占地115畝，總投資約6億元。按照部署，一期計劃投資3億元，占地50畝，達產(chǎn)后形成年產(chǎn)15000噸超純化學材料產(chǎn)品的生產(chǎn)能力。根據(jù)公司在定增公告中所說，此次定增擬將部分資金投資于該項目。

進入2020年，上海新陽在該項目上的投入越發(fā)激進。8月，公司公告擬定增募資不超15億元，其中7.32億元用于集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化項目。主要開發(fā)ArF干法工藝使用的光刻膠和面向3D NAND臺階刻蝕的KrF厚膜光刻膠產(chǎn)品，力爭于2023年前實現(xiàn)上述產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化。

11月，公司再次公告擬向特定對象發(fā)行股票募集資金總額不超過14.5億元，其中8.15億元再投上述項目。若項目按計劃進度進行，預計KrF厚膜光刻膠2021年開始實現(xiàn)少量銷售，2022年可實現(xiàn)量產(chǎn)，預計ArF（干式）光刻膠項目在2022年可實現(xiàn)少量銷售，2023年開始量產(chǎn)，預計當年各項產(chǎn)品銷售收入合計可達近2億元。

東吳證券分析師柴沁虎去年3月16日報告曾指出，上海新陽一直致力于進行半導體用光刻膠的產(chǎn)業(yè)化，雖然中間走過一段彎路，但參股博硯電子后，可以有效借鑒博硯電子的成功經(jīng)驗。同時，公司和博硯電子也有一定程度的產(chǎn)業(yè)協(xié)同，認為公司是國內(nèi)最有可能率先在集成電路制造用高端光刻膠取得實質(zhì)性突破的企業(yè)。

阿斯麥關鍵設備“松綁” 國產(chǎn)高端光刻膠持續(xù)突破

去年以來，國產(chǎn)替代浪潮席卷半導體行業(yè)，而光刻膠作為半導體光刻工藝的核心材料，決定了半導體圖形工藝的精密程度和良率，成為了其中最受矚目的環(huán)節(jié)之一。

2020年12月17日，南大光電公告稱，控股子公司寧波南大光電自主研發(fā)的193nm ArF光刻膠產(chǎn)品成功通過客戶的使用認證，標志國內(nèi)第一支通過產(chǎn)品驗證的國產(chǎn)ArF光刻膠就此誕生，意味著長期被國外壟斷的ArF光刻膠終于邁出了國產(chǎn)化的第一步。

據(jù)了解，按不同制程，半導體用光刻膠可分為EUV光刻膠、ArF光刻膠、KrF光刻膠及G線、i線光刻膠，前三者均為高端光刻膠產(chǎn)品，產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)數(shù)據(jù)顯示，截至2019年國內(nèi)在g線/i線光刻膠僅達到20%自給率，而KrF光刻膠自給率不足5%，ArF光刻膠則完全依賴進口。

高端光刻膠國產(chǎn)替代艱難的背后，是其研發(fā)過程中對高端光刻機的嚴重依賴。由于在研發(fā)光刻膠的過程中需要有對應光刻機的支持，規(guī)模量產(chǎn)后需要在光刻機上不斷調(diào)試。而先進光刻機價格昂貴，國內(nèi)半導體材料公司難以承受，因而高端光刻膠基本被日本及歐美壟斷。

就在本月3日，中芯國際公告稱，與荷蘭光刻機制造商阿斯麥簽訂購買單，金額達12.02億美元。另據(jù)《科創(chuàng)板日報》1日獨家獲悉，為中芯國際提供高制程（14nm及以上）工藝部分產(chǎn)品所需設備的美國設備商，已獲美許可證。

對此，華金證券胡慧團隊3月7日報告認為，中芯國際14nm及以上成熟制程禁令“松綁”，代表著我國大陸晶圓代工龍頭在成熟制程上的發(fā)展前景進一步明朗，預期未來將有更多美國設備供應商獲得供應許可。

中金公司彭虎團隊同日報告也指出，半導體設備和材料是高端制造業(yè)發(fā)展的基礎，結合中芯國際潛在成熟制程獲取美國設備許可證，建議關注上游設備及原材料的機會。

另據(jù)華泰證券胡劍團隊2020年11月18日報告，在半導體供應鏈安全逐漸得到重視的背景下，國產(chǎn)光刻膠研發(fā)和量產(chǎn)或將提速，國內(nèi)廠商紛紛計劃在被日美壟斷的半導體光刻膠領域擴大投入，并在高端ArF光刻膠領域研發(fā)和量產(chǎn)持續(xù)突破。

來源：財聯(lián)社